반도체용 PSM 블랭크마스크 기술 FPD에 적용 양산
[뉴스핌=최영수 기자] 국내 블랭크마스크 전문업체인 에스앤에스텍(대표 남기수)은 국내 최초로 FPD용 PSM 블랭크마스크 양산에 성공했다고 28일 밝혔다.
'블랭크마스크'란 반도체 및 평판디스플레이(FPD; Flat Panel Display) 공정재료인 포토마스크의 원재료로서, 석영유리기판 위에 회로패턴이 형성 되기 전 차광막과 반사방지막, 감광막 등이 적층된 마스크를 말한다.
PSM(phase Shift Mask) 블랭크마스크는 반도체용 마스크에서 이미 적용되던 기술로 빛의 위상을180도 전환시켜 노광 시 손실되거나 변형되는 빛을 최대한 막아 미세 패턴을 선명하게 구현할 수 있는 최첨단 마스크 기술이다.
에스앤에스텍은 이미 반도체용 PSM 블랭크마스크를 공급, 기술력을 인정 받아왔으나 그 동안 대면적 디스플레이용으로는 빛의 투과율 등 광학적 특성을 균일하게 유지하는 것이 어려워 양산에 어려움이 있었다.
그러나 이번에 FPD용 PSM 블랭크마스크 양산에 성공함으로써 LCD, OLED 등 디스플레이에 적용 시 전보다 뛰어난 고해상도 디스플레이 생산이 가능하다는 설명이다.
에스앤에스텍은 PSM 블랭크마스크를 국내 포토마스크 고객사에 납품해 우수한 품질을 인정 받은 만큼 앞으로 고해상도 디스플레이 시장에서 좋은 성과를 기대하고 있다.
에스앤에스텍 관계자는 "그동안 다양한 블랭크마스크 기술의 노하우를 살려 LCD, OLED 등 대형 고해상도 디스플레이용 공정재료 양산을 준비해 왔다"며 "고해상도 디스플레이 시장이 개화됨에 따라 FPD용 PSM 블랭크마스크가 회사의 매출증대에 기여하는 새로운 성장 동력이 될 것"이라고 강조했다.
[뉴스핌 Newspim] 최영수 기자 (dream@newspim.com)