[뉴스핌=배군득 기자] 삼성전자가 추진하는 중국 현지 반도체 생산라인 설립에 대해 정부 수리가 결정되면서 본격적인 투자가 진행된다.

이번 중국 현지 공장은 삼성전자의 첫 해외 거점이라는 점에서 지난달 말부터 업계의 관심사로 떠올랐다. 특히 권오현 DS총괄 부회장이 올해 공격적인 투자 의지를 내비치면서 삼성전자 반도체 규모 확대가 어느 정도 예상됐다.

중국 현지 공장은 IT 기기의 중국 생산 비중이 계속 증가하는 상황에서 현지생산 확대를 통해 고객 대응 스피드와 효율을 높이기 위한 전략이다.

삼성전자 관계자는 “가장 큰 시장으로 부상하는 중국 수요가 빠르게 증가하고 있다”며 “세계 유수 IT기업 공장이 중국에 있는 것도 현지 반도체 공장 설립을 추진한 이유”라고 설명했다.

국가기밀에 해당하는 반도체 기술유출을 우려한 정부가 사실상 중국 공장 설립을 승인하면서 삼성전자는 낸드플래시를 중심으로 모바일 반도체 시장 공략의 교두보를 마련 할 것으로 보인다.

아직까지 중국 내 부지 선정과 현지 인허가 등 절차가 남았지만 삼성전자 내부적으로 상반기 착공, 내년 하반기 가동을 목표로 하고 있다.

건립 예정인 공장 생산규모는 12인치 웨이퍼 기준으로 월 10만장, 양산 때까지 5조원 정도가 투입될 전망이다. 공장이 완공되면 반도체 업계에서 성공하지 못한 10나노급 미세공정이 생산된다.

한편 삼성전자는 미국과 중국에 반도체 생산 공장을 설립하며 보폭을 확대하는 동시에 국내 생산라인에 대한 투자도 지속적으로 추진한다는 계획이다.

삼성전자 관계자는 “중국 공장설립과 국내 라인의 투자와는 별개의 문제로 국내 생산 라인에 대한 투자도 지속적으로 할 예정”이라고 밝혔다.

실제 삼성전자는 지난해 9월 나노시티 화성캠퍼스에서 ‘메모리 16라인 가동식 및 20나노 D램·플래시 양산’ 행사를 가졌다.

현재 삼성전자는 경기 기흥과 화성에 메모리와 시스템LSI 생산라인, 충남 온양에 조립라인을 두고 있다. 해외는 미국 오스틴에 시스템 LSI 라인을 가동 중이다.



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[뉴스핌 Newspim] 배군득 기자 (lob13@newspim.com)