[서울=뉴스핌] 박민경 기자 = 삼성전자의 반도체 핵심기술을 중국 경쟁사로 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 전직 직원에게 1심에서 중형이 선고됐다.

서울중앙지법 형사합의28부(재판장 한대균)는 22일 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반(국가핵심기술 국외유출) 등 혐의로 기소된 삼성전자 출신 전 모씨에게 징역 7년을 선고했다.

재판부는 "관련자 진술과 해당 기술 자료 내용, 피고인의 당시 업무 및 행위 등을 종합하면 공모해 삼성전자 기술이 유출된 사실을 인식하고 사용한 것으로 인정된다"며 "피고인의 부인 취지는 받아들이기 어렵다"고 판단했다.

특히 양형과 관련해 "이 사건은 우리나라 대기업이 거액의 개발비와 연구 인력을 투입해 확보한 핵심 정보를 구성원이 취득해 외국에서 사용하게 한 것"이라며 "결국 대기업은 물론 대한민국까지 손실을 입혔기 때문에 엄한 처벌을 할 수밖에 없다"고 밝혔다.

다만 "범행 경위와 관련해 당시 영업비밀 준수에 대한 대기업 측의 충분한 보상이 있었는지 의문이 있는 점은 유리한 정상으로 인정된다"고 덧붙였다.

전씨는 삼성전자에서 중국 반도체 업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 이직한 뒤, 약 1조6000억원이 투입된 18나노급 D램 공정기술을 무단으로 유출·사용한 혐의로 재판에 넘겨졌다.

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