[서울=뉴스핌] 최원진 기자= SK하이닉스의 중국 공장 첨단화 계획이 미국의 반대로 무산될 위기에 처했다고 로이터통신이 복수의 소식통을 인용해 17일(현지시간) 보도했다.

SK하이닉스는 중국 장쑤성 우시에 있는 공장 개량 계획의 일환으로 네덜란드 회사인 ASML의 첨단 자외선 반도체 인쇄 기술인 극자외선(EUV) 노광장비를 들이려 하고 있는데 미국이 반대하고 있다는 전언이다.

그동안 미국은 중국이 군사력 향상에 쓸 수 있다며 동맹국의 첨단 기술과 기기를 현지에 두는 것을 반대해왔다.

백악관 고위 관리는 SK하이닉스가 중국에 EUV 장비를 들이는 것을 허용할 것인지 묻는 로이터의 질문에 직접 답변하지는 않았지만, 조 바이든 행정부는 중국이 미국과 동맹국의 첨단 기술을 이용해 반도체 제조에 나서 궁극적으로 중국 인민해방군 현대화를 돕는 것을 막는 일에 계속 전념하고 있다고 알렸다.

두 명의 소식통은 이석희 SK하이닉스 사장이 문제 제기를 위해 지난 7월 워싱턴을 방문했다고 전했다.

SK하이닉스의 우시 공장은 "세계 전자기기 산업에 중요하다"고 로이터는 설명했다. SK하이닉스의 D램 생산의 절반을 차지하는 것은 물론이고 전 세계 D램의 15%를 차지한다는 것이다.

시장분석업체 IDC에 따르면 올 한해 D램 수요는 19% 급증했다. 이 때문에 SK하이닉스 우시 공장 첨단화에 주요한 변수가 생겨도 세계 메모리칩 시장에 큰 타격이 될 것이라고 내다봤다.

로이터는 향후 몇 년간 이 문제가 해결되지 않으면 SK하이닉스의 D램 시장 경쟁력은 삼성전자와 미국의 마이크론테크놀로지에 뒤처질 수 밖에 없다고 내다봤다. 두 회사는 이미 ASML의 EUV를 사용하고 있다.

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