중국 반도체 포토레지스트 국산화, 7나노까지 커버

기사입력 : 2026년03월24일 10:37

최종수정 : 2026년03월24일 10:37

[베이징=뉴스핌] 조용성 특파원 = 중국의 반도체 소재 업체가 반도체 공정의 핵심 소재인 포토레지스트 양산을 개시했다. 이로써 중국이 포토레지스트 국산화에 성공했다는 평가가 나온다.

딩룽(鼎龙)구펀의 자회사인 딩룽신소재가 건설한 포토레지스트 공장이 완공됐으며, 양산 체제에 돌입했다고 중국 증권시보가 24일 전했다.

완공된 공장은 KrF(크립톤 플루오라이드) 포토레지스트와 ArF(아르곤 플루오라이드) 포토레지스트를 생산하고 있으며, 한 해 생산 규모는 300톤이다.

공장은 유기합성, 고분자 합성, 정제·정화, 포토레지스트 혼합에 이르는 전 공정을 아우르는 중국 내 첫 번째 공장으로 평가된다. 딩룽신소재는 포토레지스트의 핵심 원재료도 자체 생산한다. 또한 노광 장비 검증 플랫폼도 확보한 상태다.

현재 30개 이상의 완제품 생산 라인을 구축했으며, 유휴 토지도 확보한 만큼 시장 수요에 따라 증설에 나선다는 방침이다.

현재 딩룽신소재는 30종 이상의 웨이퍼용 포토레지스트 제품을 개발했으며, 이 중 절반 이상이 고객사 검증 단계에 들어갔다. 일부 제품은 이미 안정적인 양산 공급을 시작했다.

딩룽신소재가 생산하는 KrF 포토레지스트는 90나노미터(nm)~130nm의 반도체 제조에서 노광 공정에 사용된다. ArF 포토레지스트는 65nm~28nm 공정에 사용된다.

ArF 포토레지스트는 DUV(심자외선) 리소그래피(노광기)의 노광 공정에 활용된다. EUV(극자외선) 리소그래피를 활용한 노광 공정에는 사용할 수 없다. 중국은 DUV를 멀티패터닝하는 방식으로 7나노미터 반도체까지 생산할 수 있다.

딩룽신소재의 포토레지스트는 중국의 메모리 업체인 CXMT와 YMTC에 우선적으로 납품될 것으로 예상된다. 또한 중국 내에서 유일한 7나노미터 생산 라인을 갖추고 있는 SMIC도 사용할 것으로 관측된다.

ys1744@newspim.com

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