[ 뉴스핌=황세준 기자 ] 삼성전자가 반도체 '1등 백화점' 구축에 본격 시동을 건다.

11일 회사측에 따르면 올해 말 화성공장에서 2세대 10나노 시스템반도체를 양산한다. 시스템반도체는 CPU, GPU 등 전자기기에서 복잡한 연산을 주로 담당하는 부품을 말한다. 10나노는 삼성전자가 현재 보유한 가장 최신 공정이다. 

<사진=김학선 사진기자>

앞서 삼성전자는 올해 4월 2세대 10나노 공정 개발에 성공했다. 1세대 공정으로는 갤럭시 S8에 사용한 '엑시노스' 프로세서를 제조한 바 있다. 

2세대 공정은 기존 1세대 공정보다 반도체 성능 10% 높이고 전력효율 15% 개선했다. 내년 갤럭시 S9부터 본격 적용한다.

또 삼성전자는 2세대 공정을 통해 반도체 위탁생산(파운드리) 고객을 확대한다. 모바일 중심이었던 포트폴리오를 사물인터넷, 자율주행차, 인공지능 컴퓨터, 로봇 등으로 넓힌다는 계획이다.

이를 위해 오늘 서울 그랜드인터콘티넨탈 호텔에서 '삼성 파운드리 포럼'을 열고 시스템반도체 주요 수요처들을 상대로 기술개발 현황을 설명한다.

앞서 삼성전자는 지난 5월 미국 산타클라라에서 동 행사를 개최한 바 있다. 오는 9월에는 일본에서도 진행할 예정이며 유럽지역 개최도 준비 중이다. 지난해에도 한국과 미국, 중국에서 파운드리 포럼'을 개최했다.

다양한 고객사 확보를 위해 지난 5월 시스템LSI사업부 내에 속해 있던 파운드리를 별도 사업부로 독립하는 조직개편도 단행했다. 앞으로 초대형 거래선 위주의 매출 의존도를 줄이고 더 많은 고객들과의 접점을 넓혀 나간다는 포석이다.

삼성전자는 올해 8나노 공정 개발을 마치고 2020년에는 4나노 공정 개발까지 마무리지을 계획이다. 7나노 공정부터는 극자외선 노광장비(EUV)를 도입해 기존과는 차원이 다른 미세공정 기술로 고품질 반도체를 고객사에 공급한다.

삼성전자는 24일 미국 산타클라라에서 '삼성 파운드리 포럼'을 개최했다. <사진=삼성전자>

또 6나노는 7나노의 저가형 컨셉으로 개발한다. 더 향상된 기능을 원하는 고객에게는 5나노 제품을 공급한다. FD-SOI도 선보였다. FD-SOI는 웨이퍼 위에 산화막을 형성해 소자에서 발생하는 누설 전류를 줄이는 기술이다. 성능과 저전력 특성을 향상시킨 차세대 공정으로 꼽힌다.

D램, 낸드플래시 등 메모리 반도체 분야 1위인 이 회사는 시스템 반도체 사업 확대를 통해 고객이 원하는 모든 솔루션을 제공하는 반도체 백화점의 면모를 갖출 계획이다. 현재 시스템반도체 위탁생산 1위(54%)인 대만 TSMC도 추월한다는 목표다.

삼성전자의 파운드리 분야 점유율은 5.4%로 글로벌 4위다. 격차를 줄일 묘수는 기술인재 영입이다. 내년까지 국내외 시스템 반도체 전문가를 1000명 이상 충원한다. 지난 5월에는 설계, 센서 개발 분야 인력을 충원했다. 

이상현 삼성전자 파운드리 마케팅 상무는 "우리는 세계최초 EUV 공정으로 양산하는 회사가 될 것"이라며 "EUV 공정에 필요한 레이저 출력은 이미 지난 5월 개발 완료했다. TSMC의 7나노 반도체에 비해 가격, 수율 등 장점이 있다. 일단 단독 2위로 올라서면서 경쟁사와 격차를 벌리고 TSMC를 따라잡을 수 있을 것으로 기대한다"고 말했다.

그는 그러면서 "파운드리를 더 강화하겠다는 내부 판단과 고객사 요청에 의해 사업부를 분리했다"며 "이제 시스템LSI사업부와 메모리사업부도 파운드리사업부 입장에서는 고객"이라고 설명했다.

아울러 "최근 트렌드는 반도체 칩뿐만 아니라 패키지까지 원스톱으로 제공받기 원하는 고객들이 늘어나고 있다는 것"이라며 "삼성은 메모리, 시스템반도체, 패키지까지 턴키 솔루션을 제공할 수 있는 독특한 장점을 갖고 있다"고 강조했다. 

10나노 공정 기반 AP 엑시노스9 <사진=삼성전자>

[뉴스핌 Newspim] 황세준 기자 (hsj@newspim.com)