▲ 이재용 삼성전자 부회장. |
7일 삼성에 따르면 이달 5일 중국으로 출국한 이 부회장은 중국 시안에 구축중인 반도체 공장 건설현장을 둘러 본 뒤 이날 새벽 1시 10분께 인천국제공항으로 입국했다.
이 부회장의 이번 중국방문 목적은 지난해 8월 첫삽을 뜬 반도체 공장 건설의 진행상황을 점검하기 위해서다.
이 부회장은 이번 중국 방문 결과에 대해 만족하는 것으로 전해졌다.
삼성 관계자는 "이 부회장이 직접 중국 현지에서 건설중인 반도체 공장을 보고 진행상황을 점검했다"며 "중국 반도체 건설 작업이 큰 문제없이 순조롭게 진행되고 있는 것을 확인한 듯 하다"고 전했다.
삼성전자의 해외 반도체 생산라인은 미국 오스틴 공장에 이어 두 번째이다. 삼성전자는 중국 우시의 46만여㎡ 터에 70억달러를 투자해 오는 2014년부터 첨단 10나노급 낸드플래시 메모리를 생산 할 계획이다. 시안 공장 투자는 삼성의 중국 투자 중 역대 최대 규모다.
앞서 이 부회장은 현지 정부 고위 관료들도 접촉했다.
중국으로 날아간 첫날인 5일 이 부회장은 중국 산시성 성장등과 만나 반도체 투자계획과 중국측의 적극적인 협조를 요청했다. 이 자리에는 전동수 삼성전자 메모리사업부 사장과 김기남 삼성디스플레이 사장 등이 이 부회장과 함께 했다.
이 부회장은 “삼성전자가 시안을 선택한 것은 현명한 선택이었다”며 “효율적이고 안전하며 친환경적인 반도체 공장을 건설하도록 노력할 것”이라고 말했다.
자오 성장은 “삼성전자 반도체 공장 설립 프로젝트가 성공적으로 진행되고 있다”며 “앞으로 협력 규모가 확대돼 삼성이 중국에서 발전하는데 샨시성이 요충지가 되길 바란다”고 했다.
한편 이 부회장과 함께 중국 출장길을 동행했던 전동수 삼성전자 메모리사업부 사장은 불산누출사고에 대해 재발방지에 만전을 기할 뜻을 다시 한번 확인했다.
전 사장은 "현재 불산누출사고는 수사당국에서 조사하고 있는 상황인 만큼 지켜봐 줬으면 한다"라며 "앞으로 유사한 사고가 발생되지 않도록 철저히 재발방지 대책을 마련하겠다"고 강조했다.
[뉴스핌 Newspim] 양창균 기자 (yangck@newspim.com)