[뉴스핌=백현지 기자] 참엔지니어링은 소정의 패턴이 형성된 반도체 또는 평판 디스플레이 제조용 마스크 상의 이물질을 조사하고 니들을 이용해 잔류 물질을 제거하는 리페어 장치 관련 특허권을 취득했다고 23일 공시했다.
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[뉴스핌 Newspim] 백현지 기자 (kyunji@newspim.com)
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