[뉴스핌=김양섭 기자] SK하이닉스 공장 D램 반도체 공정라인에서 이산화규소 가스가 누출됐다.
5일 SK하이닉스에 따르면 이날 오전 경기도 이천시 부발읍 반도체 공정에 필요한 가스 공급배관 이음새에 생긴 틈으로 가스가 누출됐다.
작업자 2명이 두통과 구토 증세를 보였지만 심각한 상태는 아닌 것으로 전해졌다. 이산화규소는 반도체 공정에 들어가는 불산이나 실란가스와 같이 인체에 치명적인 유해성은 없는 것으로 알려져 있다
부상자 2명은 진료 결과 특이사항이 발견되지 않아 병원 방문 후 30여분 만에 귀가조치했다
하이닉스측은 사고 직후 부상자를 병원에 옮긴 뒤 가스 공급배관 이음새를 교체하는 등 조치를 완료했다.
[뉴스핌 Newspim] 김양섭 기자 (ssup825@naver.com)