적외선흡수분광법으로 온실가스 농도 측정
배출권거래제 배출량 보고·인증에 활용
[세종=뉴스핌] 성소의 기자 = 반도체와 디스플레이 업종의 주요 온실가스 배출·감축량을 정확하게 산정할 수 있도록 개정한 온실가스공정시험기준이 공개됐다.
환경부 소속 국립환경과학원은 11일 개정된 온실가스공정시험기준을 국립환경과학원 누리집(nier.go.kr)에 공개한다고 밝혔다.
온실가스공정시험기준은 사업장에서 배출되거나 대기 중에 존재하는 온실가스 농도를 정확하게 측정하는 데 필요한 시험방법이다.
세계 최대 규모의 반도체 공장인 삼성전자 평택 2라인 전경 [사진=삼성전자 제공] |
과학원은 산업공정 배출가스 중에 포함된 아산화질소, 수소불화탄소, 과불화탄소, 육불화황, 삼불화질소 농도를 적외선흡수분광법으로 측정해 온실가스 배출권거래제의 배출량 보고·인증에 적용할 수 있도록 기준을 제정했다.
이번 개정으로 반도체 및 디스플레이 업종에서 배출되는 온실가스 농도를 적외선흡수분광법으로 측정해 감축 활동에 대한 정량평가를 할 수 있게 됐다.
또 감축시설의 저감 효율 측정뿐만 아니라 공정 과정 중에 쓰이는 육불화황 등 온실가스의 사용 비율을 평가하고 이때 발생하는 사불화탄소 등 부생 가스에 대한 측정까지 할 수 있다.
개정된 온실가스공정시험기준은 국립환경과학원 누리집(nier.go.kr) 및 법제처 국가법령정보센터(law.go.kr)에서 누구나 확인할 수 있다.
soy22@newspim.com