[베이징=뉴스핌] 조용성 특파원 = 미국의 제재로 EUV(극자외선) 리소그래피(노광기) 수입이 막혀있는 중국이 자체적으로 EUV를 만들 수 있는 공장건설을 추진중이라는 보도가 나왔다.

홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)는 25일 중국 칭화(靑華)대 연구진이 입자가속기를 활용해 광원을 만들어내는 'SSMB(Steady-State MicroBunching)'라는 기술을 개발해 성과를 거뒀다고 보도했다. 이 기술을 바탕으로 거대한 반도체 EUV 노광장비 공장 건설이 추진된다고도 전했다.

네덜란드 ASML이 독점중인 EUV 장비는 수출을 위해 크기를 줄여야 하지만, 칭화대 연구팀이 구상중인 장비는 규모가 거대해서 공장의 형태를 지닌다.

ASML은 장비가 극자외선 광선을 만들어 이를 쏘아 회로도를 그려낸다면, 칭화대 연구팀은 거대한 입자가속기를 활용해 광원을 만들어내고 이 광원으로 회로를 그려낸다. 때문에 장비가 아닌 공장형태로 만들어진다.

칭화대 연구팀은 관련 기술에 대한 논문을 2021년 2월 학술지 네이처에 등재한 바 있다. 논문에 따르면, 1064nm의 레이저를 발생시켜 둘레 48m의 가속기를 돌린다면 미세하면서도 강한 광원을 만들어 낼 수 있으며 연구팀은 이를 검증해 냈다.

탕촨샹(唐傳祥) 칭화대 교수는 논문에서 "SSMB는 파장이 짧고 출력이 높은 광원을 만들어 낼 수 있으며, 이는 EUV 장비에 사용될 수 있다"고 설명했다. 또한 탕 교수는 대학 웹사이트를 통해 "EUV 노광기를 독자적으로 만들려면 아직 갈 길이 멀지만, SSMB는 그 대안이 될 수 있다"고 말했다.

SCMP는 해당 공장이 건설되면 ASML의 장비에 비해 대폭 저렴한 가격으로 광원을 만들 수 있으며, 2nm 반도체 공정까지 커버할 수 있을 것이라는 예상을 내놓았다.

ASML의 EUV 노광장비 [사진=업체 홈페이지]

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