[서울=뉴스핌] 홍석희 기자 = 삼성전자 반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 전 삼성전자 부장이 항소심에서 감형받았다.

서울고등법원 형사8부(재판장 김성수)는 23일 오후 산업기술의유출방지및보호에관한법률 위반 등 혐의로 재판에 넘겨진 전직 삼성전자 부장 A씨에게 징역 6년에 벌금 2억원을 선고했다. A씨는 지난 2월 1심에서 징역 7년에 벌금 2억원을 선고받고 법정 구속됐다.

재판부는 전 협력업체 직원 B씨, C씨에게 각각 징역 2년 6개월, 징역 1년 6개월을 선고한 원심은 유지했다.

A씨는 항소심에서 원심의 사실오인을 주장하며 무죄를 요청했으나 재판부는 모두 받아들이지 않았다. 재판부는 "피고인(A씨) 이외의 피고인들과 관련자들은 공소사실을 인정하고 있다"고 판시했다.

다만 재판부는 "피고인이 다니던 회사에서 해고되고 해외에 재취업이 어려워지자 중국 기업에 취업해서 이 사건 범행에 이르렀다"며 "검찰 수사에 협조한 점 등을 고려해 원심보다 낮은 형을 선고했다"며 감형 이유를 밝혔다.

A씨는 2016년 중국의 신생 반도체업체인 창신메모리테크놀러지(CXMT)로 이직하면서 삼성전자의 국가핵심기술인 18나노(nm·10억분의 1m) D램 반도체 공정 정보를 유출해 제품 개발에 사용하도록 한 혐의 등을 받는다.

B씨는 삼성전자 관계사인 D반도체 장비납품업체 팀장으로 근무하며 D사의 첨단기술인 반도체 증착장비 설계기술 자료를 CXMT로 빼돌린 혐의를 받고 있다.

앞서 1심 재판부는 "관련 분야의 건전한 경쟁과 거래 질서를 심각하게 저해하고, 특히 피해 회사들의 막대한 시간과 비용을 헛되게 할 뿐만 아니라 대한민국의 국가 산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있는 중대범죄"라고 지적하며 A씨에게 징역 7년의 중형을 선고했다.

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