[서울=뉴스핌] 정경환 기자 = 에스앤에스텍이 블랭크마스크(Blank Mask) 수요 증가에 힘입어 지속적인 실적 향상을 기대하고 있다.

에스앤에스텍은 24일 서울 여의도 한국거래소에서 기관투자자와 애널리스트를 대상으로 기업설명회를 개최, 블랭크마스크 사업을 강화하겠다며 이같이 밝혔다.

회사 관계자는 "올해 삼성전자 시스템 LSI 사업 강화, SK하이닉스 2세대 10nm D램 양산계획 등 전방산업 호조와 중국의 LCD·OLED 생산라인 대폭 확장으로 포토마스크 원재료인 블랭크마스크 수요 증가가 예상된다"며 "이에 대응할 수 있는 기술력과 생산시설을 확보한 상태"라고 했다.

그는 이어 "폴더블, 전장, VR 등 미래 산업 분야에서 OLED 수요 증가에 따라 블랭크마스크 수요도 증가할 것으로 예상된다"면서 "올해에도 실적 향상이 지속될 것"이라고 덧붙였다.

블랭크마스크는 반도체 및 LCD·OLED 공정 핵심재료인 포토마스크의 원재료로, 패턴이 노광되기 전의 마스크를 말한다. 석영유리기판 위에 금속박막 필름이 증착되고 그 위에 감광액이 도포된 형태로 이뤄져 있다. 일반적으로 사용 목적에 따라 반도체용 블랭크 마스크와 디스플레이용 블랭크마스크로 나뉘어진다.

에스앤에스텍은 국내 최초로 블랭크마스크 국산화에 성공한 기업이다. 지난해 매출 610억원, 영업이익 51억원으로 전년 대비 각각 13%, 112% 증가한 실적을 기록했다. 특히, 매출은 창사 이래 최대 규모다.

회사 관계자는 "매출 성장이 본격화되고 있다. 블랭크마스크 사업 역량을 지속 강화할 것"이라며 "주력사업인 블랭크마스크 역량 강화를 통해 차세대 반도체와 디스플레이 시장 선점에 나서겠다"고 강조했다.

이와 함께 에스앤에스텍은 미래 수익 사업으로 아직 세계적으로 상용화되지 않은 EUV용 펠리클 개발에 박차를 가해, 향후 급격한 성장이 예상되는 EUV 펠리클 시장을 선점하겠다는 전략을 세웠다.

에스앤에스텍은 지난해 9월 미국 EUVL 심포지움에서 경쟁사 대비 우월한 수준인 투과율 88%를 확보한 펠리클 시제품을 발표했다. 이는 양산에서 요구하는 대면적 풀 사이즈 사양에 만족하는 성과라는 게 회사 측 설명이다.

회사 관계자는 "에스앤에스텍은 국내 최초로 블랭크마스크 국산화에 성공한 기업으로, 최근 시스템 LSI 및 LCD, OLED 분야의 고부가가치 제품 시장까지 영역을 확대하고 있다"며 "반도체 기술 고도화에 따라 미세공정 기술 확보, EUV용 펠리클 개발을 통해 새로운 도약의 발판을 마련하겠다"고 말했다.

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