[뉴스핌=김선엽 기자] SK하이닉스는 일본의 도시바와 나노임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography, 이하 ‘NIL’) 기술의 공동 개발에 나선다고 19일 밝혔다.
 
NIL 기술은 메모리 공정이 더욱 미세화되고 있는 가운데 미세 패턴을 구현하는데 있어 적합한 차세대 리소그래피 공정기술로 평가 받고 있으며, 막대한 투자가 선행되어야 하는 기존 공정기술과 비교해 경제적인 양산이 가능하다는 장점도 갖고 있다.

업계는 공정 미세화의 한계를 극복하기 위해 EUV(Extreme Ultraviolet) 활용 등 다양한 노력을 해오고 있으며, NIL 기술도 한계 극복을 위한 방안 중 하나로 개발돼 왔다.

양사는 이번 공동개발을 통해 차세대 공정기술인 NIL 개발의 성공 가능성을 높이고, 제품 양산을 통한 이 기술의 상용화를 확대할 수 있을 것으로 예상하고 있다. 또한 제품 양산시 원가경쟁력도 향상시킬 수 있게 되는 효과도 기대할 수 있게 됐다.

양사는 공고해진 협력관계를 바탕으로 분쟁도 철회한다. 도시바는 지난 3월 SK하이닉스를 상대로 제기한 약 1조1000억원 규모의 손해배상을 모두 취하할 예정이다. 합의금액은 미화 2억7800만 달러다.

도시바는 일본 검찰이 전 SK하이닉스의 직원인 스기다를 부정경쟁방지법 위반 혐의로 기소하자, SK하이닉스가 도시바의 정보를 활용했다며 민사소송을 제기한 바 있다.

또한 양사의 기존 반도체 특허 상호 라이선스 및 제품의 공급 계약도 연장해 특허 분쟁으로 인한 사업 불확실성을 완화했으며, 안정적인 판매 기반을 유지할 수 있게 됐다.



[뉴스핌 Newspim] 김선엽 기자 (sunup@newspim.com)